核心能力
实验设计（DoE）模块为你提供的能力
定制化设计
突破经典设计的局限：支持多种因子类型与线性约束，根据具体目标自动生成合规实验方案。
- 支持连续 / 离散 / 分类 / 混料 / 常数等多种因子类型
- 线性约束：精确描述复杂实验区域的边界条件
- 灵活选择主效应、交互项、RSM 等模型项
- 自定义实验次数，在资源约束与统计功效间取得平衡
经典设计库
完全析因、筛选、响应曲面、田口、混料、空间填充——经典 DoE 方法应有尽有。
- 筛选设计 / 确定性筛选设计（DSD）：高效锁定显著因子
- 响应曲面（Box-Behnken / CCD）：精细优化
- 田口设计：稳健性导向的工艺优化
- 混料设计：配方与处方研发场景专用
预测刻画器 + 蒙特卡洛
实施前科学预判工艺稳健性，避免无效试产造成的资源浪费。
- 交互式刻画器：一键调整参数即时预览响应变化
- 蒙特卡洛模拟：10,000 次仿真验证方案稳健性
- 一键优化：自动获取工艺参数最佳配置
- 提前定位关键波动因素，指导方案修正方向
多响应优化
通过拟合多响应多项式回归模型，在复杂响应范围约束下精准定位量化工艺改进方向。
- 同时对多个响应（磨损、弹性、伸长、硬度等）建模
- 等高线图：可视化各响应满足区域与交集
- 交互式调整响应目标区间，实时更新最优区域
- 精准定位满足全部约束的最优工艺参数组合
界面预览
真实功能截图
定制化设计：多因子类型 + 线性约束，突破经典设计局限
预测刻画器 + 蒙特卡洛：实施前科学预判工艺稳健性
多响应优化：等高线交集精准定位最优工艺窗口
半正态图：异常效应（关键因子）一眼可见
典型应用场景
这些工程师正在用 实验设计（DoE）
化工工艺工程师
Box-Behnken 设计优化反应温度、催化剂、停留时间，提升收率
半导体工艺工程师
筛选设计快速从 20 个候选参数中锁定 4 个显著因子
制药配方研究员
混料设计优化辅料配比，兼顾稳定性与生物利用度
方法清单
13 种分析方法
本模块提供的完整方法列表。每个方法都有对应的中文界面、参数说明与结果解读。
定制化设计因子筛选筛选设计拟合两水平筛选确定性筛选设计完全析因设计响应曲面设计混料设计田口设计扩充设计空间填充设计评估设计比较设计
适用人群
谁会从中受益
实验设计（DoE）模块为以下角色的日常工作提供直接价值。
工艺工程师
研发
六西格玛黑带
DoE 专家
配方研究员